單項選擇題集成電路制造工藝中，二氧化硅膜不能用于（）。?
A.元器件的組成部分（如柵氧化層）
B.源漏極
C.互連層間絕緣介質(zhì)
D.作為掩蔽膜
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1.單項選擇題以下對集成電路版圖設(shè)計中幾何設(shè)計規(guī)則描述不正確的是（）。?
A.幾何設(shè)計規(guī)則是版圖圖形編輯的依據(jù)
B.幾何設(shè)計規(guī)則是設(shè)計系統(tǒng)生成版圖的依據(jù)
C.幾何設(shè)計規(guī)則是分析計算的依據(jù)
D.幾何設(shè)計規(guī)則是檢查版圖錯誤的依據(jù)
2.單項選擇題以下不是影響刻蝕質(zhì)量的主要因素是（）。????
A.粘附性
B.刻蝕溫度
C.刻蝕時間
D.刻蝕槽的高度
