材料分析測試技術(shù)章節(jié)練習(2020.05.20)

來源：考試資料網(wǎng)

1.填空題化合物A的分子式為，在它的NMR圖譜中，在δ=2.0ppm處有一個二重峰（3H）；δ=5.15ppm處有一個四重峰（1H）；δ=7.35ppm處有一個多重峰（5H），其不飽和度為4，結(jié)構(gòu)式為（）

參考答案：

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2.名詞解釋點分辨率與晶格分辨率

參考答案：點分辨率是電鏡能夠分辨的兩個物點間的最小間距；晶格分辨率是能夠分辨的具有最小面間距的晶格像的晶面間距。

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3.名詞解釋二次電子

參考答案：二次電子是指被入射電子轟擊出來的核外電子。二次電子來自表面50-100Å的區(qū)域，能量為0-50eV。它對試樣...

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4.填空題XPS光電子能譜圖中通常會出現(xiàn)X射線衛(wèi)星峰、能量損失峰、（）、（）和（）、（）等5種伴峰。

參考答案：自旋軌道分裂峰；俄歇電子峰；振離；振激峰

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5.問答題金剛石晶體屬面心立方點陣，每個晶胞含8個原子，坐標為：（0，0，0）、（1/2，1/2，0）、（1/2，0，1/2）、（0，1/2，1/2）、（1/4，1/4，1/4）、（3/4，3/4，1/4）、（3/4，1/4，3/4）、（1/4，3/4，3/4），原子散射因子為fa，求其系統(tǒng)消光規(guī)律（F²最簡表達式），并據(jù)此說明結(jié)構(gòu)消光的概念。

參考答案：