<ol id="4m0zx"></ol>

電廠水化驗員考試章節(jié)練習(2019.08.02)

問答題
斜管出水水質(zhì)惡化的原因及處理方法？
答案：1）混合井進水流量大：關(guān)小進水門，包括混合井進水門、源升泵出口門及旁路門。2）藥量過多或過小：根據(jù)進水及出水水質(zhì)情況，及...
填空題
電光天平保留了阻尼天平的優(yōu)點，同時增加了兩個裝置：（）裝置和（）裝置。
答案：光學讀數(shù)；機械加碼
問答題
測pNa時，堿化劑是先加還是后加？
答案：
應(yīng)先加，使所測水樣pH調(diào)至10以上。否則水中氫離子會取代敏感薄膜表面層硅酸鹽骨架中的鈉離子，影響測試結(jié)果。
單項選擇題
通常，硅酸在（）中的含量相對較多。
A、河水；
B、湖水；
C、井水；
D、海水。
問答題
簡述膠體物質(zhì)、高價金屬離子、再生劑不純引起樹脂污染的原因？
答案：（1）膠體物質(zhì)引起污染的原因是：水中膠體顆粒常帶負離子，使陰離子交換樹脂受到污染。膠體物質(zhì)中以膠體硅對樹脂的危害最大，吸...
判斷題
測定硬度時，為消除鐵的干擾，常加入三乙醇胺。
答案：正確
單項選擇題
使含有溶解氧的水與不含氧的氣體強烈混合，以達到除氧的目的，稱為（）。
A、熱力除氧
B、解吸除氧
C、化學除氧
D、電化學除氧
單項選擇題
在循環(huán)冷卻水中，要求其鈣離子濃度（以CaCO3計）一般（）。
A、越少越好
B、不得少于0.05mg/L
C、不得少于0.05mg/L
D、不得多于0.05mg/L
單項選擇題
用元素符號來表示物質(zhì)分子組成的式子叫（）。
A、分子式；
B、化學式；
C、方程式；
D、化合物。
問答題
火力發(fā)電廠的生產(chǎn)過程包括哪些主要系統(tǒng)和輔助系統(tǒng)？
答案：火力發(fā)電廠生產(chǎn)過程中涉及的主要系統(tǒng)包括汽水系統(tǒng)、燃燒系統(tǒng)和電氣系統(tǒng)?；鹆Πl(fā)電廠生產(chǎn)過程中涉及的輔助系統(tǒng)包括供水系統(tǒng)、化學...

<table id="1ojz8"></table>

首頁

題庫

網(wǎng)課

在線?？?/h3>

桌面端

電廠水化驗員考試章節(jié)練習(2019.08.02)

斜管出水水質(zhì)惡化的原因及處理方法？

電光天平保留了阻尼天平的優(yōu)點，同時增加了兩個裝置：（）裝置和（）裝置。

測pNa時，堿化劑是先加還是后加？

通常，硅酸在（）中的含量相對較多。

簡述膠體物質(zhì)、高價金屬離子、再生劑不純引起樹脂污染的原因？

測定硬度時，為消除鐵的干擾，常加入三乙醇胺。

使含有溶解氧的水與不含氧的氣體強烈混合，以達到除氧的目的，稱為（）。

在循環(huán)冷卻水中，要求其鈣離子濃度（以CaCO3計）一般（）。

用元素符號來表示物質(zhì)分子組成的式子叫（）。

火力發(fā)電廠的生產(chǎn)過程包括哪些主要系統(tǒng)和輔助系統(tǒng)？

電廠水化驗員考試章節(jié)練習(2019.08.02)

斜管出水水質(zhì)惡化的原因及處理方法？

電光天平保留了阻尼天平的優(yōu)點，同時增加了兩個裝置：（）裝置和（）裝置。

測pNa時，堿化劑是先加還是后加？

通常，硅酸在（）中的含量相對較多。

簡述膠體物質(zhì)、高價金屬離子、再生劑不純引起樹脂污染的原因？

測定硬度時，為消除鐵的干擾，常加入三乙醇胺。

使含有溶解氧的水與不含氧的氣體強烈混合，以達到除氧的目的，稱為（）。

在循環(huán)冷卻水中，要求其鈣離子濃度（以CaCO3計）一般（）。

用元素符號來表示物質(zhì)分子組成的式子叫（）。

火力發(fā)電廠的生產(chǎn)過程包括哪些主要系統(tǒng)和輔助系統(tǒng)？

電光天平保留了阻尼天平的優(yōu)點，同時增加了兩個裝置：（）裝置和（）裝置。

測pNa時，堿化劑是先加還是后加？

通常，硅酸在（）中的含量相對較多。

簡述膠體物質(zhì)、高價金屬離子、再生劑不純引起樹脂污染的原因？

測定硬度時，為消除鐵的干擾，常加入三乙醇胺。

使含有溶解氧的水與不含氧的氣體強烈混合，以達到除氧的目的，稱為（）。

在循環(huán)冷卻水中，要求其鈣離子濃度（以CaCO3計）一般（）。

用元素符號來表示物質(zhì)分子組成的式子叫（）。

火力發(fā)電廠的生產(chǎn)過程包括哪些主要系統(tǒng)和輔助系統(tǒng)？