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A.光刻膠涂覆
B.曝光
C.顯影
D.腐蝕

A.布線(xiàn)分全局布線(xiàn)與詳細(xì)布線(xiàn)兩個(gè)階段，決定布線(xiàn)途徑
B.當(dāng)某個(gè)布線(xiàn)變?yōu)椴豢赡軙r(shí)，確定并拆除成為其障礙物的布線(xiàn)群，進(jìn)行重新布線(xiàn)，使其不再成為其它布線(xiàn)的障礙
C.基于階層的布局設(shè)計(jì)包括自頂向下的布圖規(guī)劃和自下向上的模塊布局
D.自頂向下的布圖規(guī)劃包括對(duì)階層模塊進(jìn)行面積預(yù)估、確定aspect比、放置模塊及模塊間時(shí)間制約的分割