解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

光學光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

例舉離子注入設備的5個主要子系統(tǒng)。

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？

描述化學機械平坦化工藝。

解釋什么是暗場掩模板？

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。