制造硅半導(dǎo)體器體中,常使硼擴(kuò)散到硅單晶中,若在1600K溫度下,保持硼在硅單晶表面的濃度恒定(恒定源半無限擴(kuò)散),要求距表面10-3cm深度處硼的濃度是表面濃度的一半,問需要多長時間(已知D1600℃=8×10-12cm2/s;當(dāng))?
已知?dú)浜玩囋诿嫘牧⒎借F中的擴(kuò)散數(shù)據(jù)為cm2/s和cm2/s試計算1000℃的擴(kuò)散系數(shù),并對其差別進(jìn)行解釋
原因:與鎳原子相比氫原子小得多,更容易在面心立方的鐵中通過空隙擴(kuò)散