A.MOSFET之閘極與源極間的直流電阻接近無窮大 B.增強(qiáng)型之P型MOSFET與空乏型之N型MOSFET特性完全相同 C.MOSFET之閘極與通道(channel)間一般是隔著二氧化硅(SiO2) D.與增強(qiáng)型比較,空乏型在制造上多了離子布植(ionimplantation)的手續(xù)
A.通道中載子的濃度 B.通道之導(dǎo)電系數(shù) C.流過接面的電流 D.接面空乏區(qū)的厚度
A.閘極的反向偏壓漏電流 B.表面效應(yīng) C.溫度效應(yīng) D.閘極使用順向偏壓