單項選擇題氧化溝工藝運行過程中DO一般控制在()mg/L。

A.0.2
B.0.5
C.2~4
D.5


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2.單項選擇題活性污泥法曝氣池中的SVI值過低,說明()

A.污泥缺乏活性、污泥沉降性能不好
B.污泥缺乏活性、污泥沉降性能好
C.污泥活性好、污泥沉降性能不好
D.污泥活性好、污泥沉降性能好

3.單項選擇題下列構筑物中,上清液TP濃度最低的是()

A.旋流沉砂池
B.氧化溝
C.二沉池
D.厭氧池

4.單項選擇題下列構筑物中,上清液TP濃度最高的是()

A.旋流沉砂池
B.氧化溝
C.二沉池
D.厭氧池

5.單項選擇題膜污染第二階段的過程特點是()

A.膜孔堵塞
B.固體污泥沉積
C.大分子物質、膠體附著
D.快速污染