A. [陰影貼圖(Shadow MAP)]的優(yōu)點(diǎn)是能夠產(chǎn)生軟陰影,速度最快。缺點(diǎn)是占用內(nèi)存量大,不支持透明或不透明貼圖的對(duì)象,不支持體積光。
B. [光線跟蹤陰影(Ray Traced Shadows)]的優(yōu)點(diǎn)是支持透明或不透明貼圖,能夠產(chǎn)生較實(shí)的陰影。缺點(diǎn)是可能會(huì)比陰影貼圖慢,不支持軟陰影。
C. [區(qū)域陰影(Area Shadows)]的優(yōu)點(diǎn)是支持透明或不透明貼圖,占用非常少的內(nèi)存資源,支持不同格式的區(qū)域陰影。缺點(diǎn)是速度比陰影貼圖慢,不支持軟陰影。
D. [高級(jí)光線跟蹤陰影(Adv Ray Traced)]優(yōu)點(diǎn)是占用內(nèi)存比光線跟蹤陰影少,速度比陰影貼圖快。缺點(diǎn)是不支持軟陰影,不支持透明與不透明貼圖。
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在使用3ds max2012版本的視口畫布之前。對(duì)需要繪制貼圖的模型有怎樣的要求?()
A 模型是可編輯多邊形
B 模型被賦予了材質(zhì)
C 模型有貼圖坐標(biāo),使用UVW貼圖修改器或自帶貼圖坐標(biāo)均可
D 模型有漫反射紋理貼圖
A. ABCD
B. BCD
C. ACD
D. ABD
A. 移動(dòng)Gizmo會(huì)更改投影中心,并影響所有類型的貼圖。
B. 旋轉(zhuǎn)Gizmo會(huì)更改貼圖方向,并影響所有類型的貼圖。
C. 均勻縮放Gizmo會(huì)影響球形或收縮包裹貼圖。
D. 當(dāng)在球形貼圖方式時(shí),縮放Gizmo,然后再切換為平面貼圖方式,則平面貼圖方式的Gizmo也會(huì)受到影響。
如圖所示,在[UVW貼圖]修改器的參數(shù)面板中,貼圖通道最多能支持()個(gè)。
A. 100
B. 99
C. 98
D. 101
如圖所示,要得到此圖效果,需選擇()種貼圖坐標(biāo)方式。
A. [平面(Planar)]
B. [長方體(Box)]
C. [球形(Box)]
D. [面(Face)]
A. 該修改器是用來指定貼圖位于對(duì)象上的放置位置、方向及大小比例的。
B. 對(duì)特殊類型的模型都有自己的一套貼圖方案,如[放樣(Loft)]、[NURBS 曲面]、和[面片(Patch]
C. 在創(chuàng)建對(duì)象時(shí),對(duì)象本身會(huì)有默認(rèn)的貼圖坐標(biāo)系統(tǒng)。
D. 在修改命令面板給對(duì)象指定一個(gè)[UVW 貼圖(UVW Map)]修改器,可以修改貼圖坐標(biāo)的方式,但不能把貼圖坐標(biāo)的修改參數(shù)制作成動(dòng)畫。
最新試題
通常情況下,在制作模型之前,都要對(duì)3DMAX的單位進(jìn)行設(shè)置,這樣才能制作出精確的模型。
樣條線形狀主要是在“頂點(diǎn)”級(jí)別下進(jìn)行調(diào)節(jié)。
使用選擇并縮放的按鈕時(shí),不能同時(shí)在XYZ軸上進(jìn)行縮放。
使用對(duì)齊按鈕時(shí),每次只能對(duì)兩個(gè)對(duì)象進(jìn)行操作。
在編輯樣條線下的頂點(diǎn)層級(jí)中,頂點(diǎn)的類型有三種。
視圖操作產(chǎn)生的大小、位置等變化,不會(huì)影響到場(chǎng)景對(duì)象的大小和位置。
如果想要?jiǎng)h除某個(gè)修改器,不可以在選中某個(gè)修改器后按delete鍵,那樣刪除的將會(huì)是物體本身,而并非單個(gè)的修改器。
如果先前沒有保存場(chǎng)景,執(zhí)行“保存”可以打開“文件另存為”對(duì)話框。
要?jiǎng)h除某個(gè)修改器,首先要選擇該修改器,然后右鍵單擊列表中,選擇刪除。
當(dāng)前活動(dòng)的視圖帶有紅色線框。