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填空題
光穩(wěn)定劑是指（），其用量通常為（）。
答案：
可有效地抑制光致降解物理和化學(xué)過程的一類化合物；0.05%-2%
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填空題
高分子材料的臭氧化機理與氧化降解機理不同，主要是以（）機理進行?？钩粞鮿┲皇窃冢ǎ┥习l(fā)揮作用。高分子材料的抗臭氧方法可以分為（）和（）。
答案：
親電加成的離子型；制品表面；物理防護法；化學(xué)防護法
