多項(xiàng)選擇題關(guān)于異構(gòu)脫蠟催化劑還原，下列說(shuō)法正確的是（）。
A.異構(gòu)脫蠟催化劑還原時(shí)循環(huán)氫純度≮99.9%
B.異構(gòu)脫蠟催化劑還原時(shí)，系統(tǒng)壓力控制在14.4Mpa
C.異構(gòu)脫蠟催化劑還原時(shí)，反應(yīng)器入口溫度最高為300℃
D.異構(gòu)脫蠟催化劑還原結(jié)束標(biāo)志是反應(yīng)器系統(tǒng)壓力保持穩(wěn)定2小時(shí)，即壓降不超過(guò)0.17MPa/h
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1.多項(xiàng)選擇題加氫裂化催化劑硫化結(jié)束標(biāo)志項(xiàng)是（）。
A.所有急冷氫閥門均關(guān)閉、催化劑床無(wú)溫差ΔT
B.冷高分切不出水
C.反應(yīng)器進(jìn)出口H2S濃度相同
D.循環(huán)氣中的H2S濃度從開(kāi)始一直維持在1~2vol％
2.多項(xiàng)選擇題關(guān)于催化劑硫化，下列說(shuō)法正確的是（）℃。
A.低溫硫化，反應(yīng)器出口溫度控制在218~232℃
B.高溫硫化，反應(yīng)器出口溫度控制在300~315℃
C.硫化期間反應(yīng)器平均溫度控制不超過(guò)330℃
D.硫化期間反應(yīng)器內(nèi)任一點(diǎn)溫度控制不超過(guò)330℃
