A.便于觀察缺陷顯示 B.提高觀察時(shí)的背景可見光照度 C.便于觀察顯示形成過程 D.防止過度去除,同時(shí)防止去除不足
A.工件被檢面處的觀察部位 B.容器內(nèi)腔空間處 C.被檢測(cè)工件所處的環(huán)境 D.整個(gè)被檢工件表面
A.溶劑懸浮式顯像 B.水溶解濕式顯像 C.干粉顯像方式 D.自顯像方式