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高壓斷路器二次技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)是用微電子、計(jì)算機(jī)技術(shù)和新型傳感器建立新的斷路器二次系統(tǒng)。
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合閘彈跳時(shí)間過長(zhǎng),將加劇觸頭的燒損,甚至導(dǎo)致動(dòng)靜觸頭間的熔焊。
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弧隙介質(zhì)強(qiáng)度的恢復(fù)過程主要與滅弧室結(jié)構(gòu)及滅弧介質(zhì)特性有關(guān)。
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