A.1~4MV
B.4~8MV
C.4-10MV
D.10~15MV
E.18~25MV
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A.產(chǎn)生于電子在原子殼層間躍遷
B.產(chǎn)生于電子與核的庫(kù)侖相互作用
C.產(chǎn)生于核躍遷
D.產(chǎn)生于正負(fù)電子湮滅
E.正電子和負(fù)電子碰撞
A.2.0-5.0cm
B.5.0-10.0cm
C.10.0-20.0cm
D.20.0-25.0cm
E.25.0-30.0cm
A.化學(xué)劑量法
B.電離室法
C.熱釋光法
D.半導(dǎo)體法
E.膠片法
A.量熱器
B.電離室
C.熱釋光
D.半導(dǎo)體
E.膠片
A.單源拉弧
B.靜態(tài)
C.植入
D.多源旋轉(zhuǎn)聚焦
E.立體定向
最新試題
帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。
對(duì)加速器射野的對(duì)稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月兩次。
人體曲面校正的組織空氣比法或組織最大劑量比方法的修正因子CF的表達(dá)式是()。
隨能量增大,光電效應(yīng)發(fā)生的概率迅速減小。
實(shí)際患者治療時(shí),無環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
伽瑪?shù)栋悬c(diǎn)位置精度高于X射線立體定向治療系統(tǒng)的精度。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
低LET射線的RBE值()1.0,高LET射線的RBE值()2.0。
電離室型劑量?jī)x在每次測(cè)量前必需對(duì)氣溫和氣壓進(jìn)行修正。