單項(xiàng)選擇題采用高壓操作可以降低焦比，原因有（）
A.利于硅的還原
B.抑制了直接還原
C.有利于間接還原
D.減少了滲碳
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1.單項(xiàng)選擇題在高爐內(nèi)高于950K的高溫區(qū)，還原劑還原性從高到低排列順序是（）
A．H2 、CO 、C
B．C 、H2 、CO
C．C、CO、CO2
2.單項(xiàng)選擇題下列屬于影響燃燒速度的因素是（）
A.煤粉流速
B.輸送介質(zhì)壓力
C.煤粉溫度
D.噴槍數(shù)量
