最新試題
生產(chǎn)中允許塔盤有少量泄漏，但正常生產(chǎn)泄漏量不能超過（）
碳四裝置再生過程中需要（）介質進行再生操作。
氣分裝置分餾塔進料口位置應（）
氣分裝置脫乙烷塔塔頂溫高，是由于（）引起。
“水擊”消除方法根本指導思想是（）
