A.15
B.16
C.17
D.18
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A.1%
B.2%
C.3%
D.5%
A.優(yōu)惠措施
B.社會(huì)福利制度
C.強(qiáng)制實(shí)行措施
D.經(jīng)濟(jì)補(bǔ)償制度
A.高壓配電柜
B.氧氣瓶
C.電梯
D.起重機(jī)
A.噪聲危害
B.有毒物質(zhì)
C.電磁輻射
D.粉塵與氣溶膠
A.覆蓋
B.填埋
C.燒毀
D.回收
最新試題
坑道方向改變后,坑壁上巖礦層的傾角線、頂板上的走向線在繪圖時(shí),方向和角度都有變化,出現(xiàn)巖石花紋不連續(xù),可用()在轉(zhuǎn)向處分開(kāi)。
坑道方向變化或坡度改變?cè)?5°以上時(shí),應(yīng)()編錄。
各探礦工程中,按礦化類(lèi)型、夾石連續(xù)分段取樣,并控制礦體頂、底板界線。
分礦床勘查類(lèi)型和確定勘查工程間距時(shí),應(yīng)依據(jù)主要礦體規(guī)模、主要礦體形態(tài)及內(nèi)部結(jié)構(gòu)、礦床構(gòu)造影響程度、主礦體厚度穩(wěn)定程度和有用組分分布均勻程度等五個(gè)主要地質(zhì)因素來(lái)確定。
地質(zhì)樣品采樣方法分為取心法、刻槽法、剝層法、全巷法、連續(xù)打塊法、集束刻線法、方格法、撰取法等。
槽、井、坑探取樣,一般根據(jù)礦化均勻程度多用10x5cm或10x3cm。
一般情況下,地質(zhì)界線投影時(shí),常用壁下、壁頂、坑頂()個(gè)投影繪圖點(diǎn)。
槽、井、坑探取樣,通常為刻槽法,其斷面規(guī)格原則上要進(jìn)行試驗(yàn)確定。
一般情況下,地質(zhì)界線投影時(shí),常用壁下、壁頂、坑頂3個(gè)投影繪圖點(diǎn),這3個(gè)點(diǎn)基本上可以控制()及坑頂兩個(gè)面上的地質(zhì)要素的基本形態(tài)。
沿脈編錄如果與穿脈一致,需在編錄結(jié)束素描掌子面,如果只編頂板,需()編一次掌子面。