氯化銨法測(cè)定二氧化硅方法中
①即使在試樣燒結(jié)正常、分解完全、沉淀洗滌充分等諸操作條件掌握良好的情況下,在二氧化硅的沉淀中吸附的()等雜質(zhì)量也能達(dá)到00.1~0.2%。
②對(duì)不溶物含量高的樣品來(lái)說(shuō),如果不經(jīng)過(guò)氫氟酸處理,二氧化硅結(jié)果仍會(huì)偏高(),對(duì)燒結(jié)不好的試樣來(lái)說(shuō),硅的結(jié)果將更加偏高,同時(shí)使()的結(jié)果偏低。
③氯化銨法硅酸脫水不可能完全,總有少量硅酸進(jìn)入濾液中,漏失量與干涸、沉淀研細(xì)程度、過(guò)濾速度、濾紙質(zhì)量等諸因素有關(guān),漏失量可從()。
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