消除鳥嘴效應(yīng)的方法有（）。

光刻工藝的特點包括（）。

濕氧氧化采用的氧化水溫是（）。

光刻工藝的設(shè)備核心是（）。

厚膜電阻的成分，一是導(dǎo)體顆粒，二是（）。

化學(xué)機械拋光液的主要成分不包括的是哪個？（）

注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關(guān)？（）

封裝工藝中，銀漿固化的溫度為（）。

刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結(jié)合來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）

硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項？（）