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【簡答題】為什么要進行顯影后檢查?
答案:
為了查找光刻膠中成形圖形的缺陷,鑒別并除去有缺陷的硅片,用來檢查光刻工藝的好壞,為光學光刻工藝生產(chǎn)人員提供用于糾正的信息...
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【簡答題】解釋光刻膠選擇比,要求的比例是高還是低?
答案:
顯影也應具有選擇性,高的顯影選擇性比意味著顯影液與曝光的光刻膠反應得快。
要求比例低。
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【簡答題】使用什么材料制作投影掩膜板,投影掩膜板上形成圖形的不透明材料是什么?
答案:
最主要的是用于亞微米光刻的投影掩膜版襯底材料是熔融石英。不透明材料是一薄層鉻。
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