《地下水環(huán)境監(jiān)測技術(shù)規(guī)范》（HJ/T164-2004）規(guī)定，采樣記錄地下水采樣記錄包括采樣現(xiàn)場描述和現(xiàn)場測定項目記錄兩部分。

《地下水環(huán)境監(jiān)測技術(shù)規(guī)范》（HJ/T164-2004）規(guī)定，根據(jù)區(qū)域水文地質(zhì)單元狀況和地下水主要補給來源，在污染區(qū)外圍地下水水流上方垂直水流方向，設(shè)置一個或數(shù)個背景值監(jiān)測井。

《地下水環(huán)境監(jiān)測技術(shù)規(guī)范》（HJ/T164-2004）規(guī)定，選定的地下水監(jiān)測點位應(yīng)經(jīng)環(huán)境保護行政主管部門審查確認。一經(jīng)確認不準任意變動。

《地下水環(huán)境監(jiān)測技術(shù)規(guī)范》（HJ/T164-2004）規(guī)定，地下水位的測定應(yīng)每年監(jiān)測兩次，豐水期、枯水期各一次。

《地下水環(huán)境監(jiān)測技術(shù)規(guī)范》（HJ/T164-2004）規(guī)定，每兩年測量監(jiān)測井井深，當監(jiān)測井內(nèi)淤積物淤沒濾水管或井內(nèi)水深低于0.5m時，應(yīng)及時清淤或換井。

《水質(zhì)采樣技術(shù)指導(dǎo)》（HJ494-2009）規(guī)定，設(shè)置背景斷面時，如有較嚴重的水土流失情況，則背景斷面應(yīng)設(shè)置在水土流失區(qū)的下游。

《水質(zhì)采樣技術(shù)指導(dǎo)》（HJ494-2009）規(guī)定，在污染源監(jiān)測中，隨污水流動的懸浮物或固體微粒，應(yīng)在分析前濾除。

《地下水環(huán)境監(jiān)測技術(shù)規(guī)范》（HJ/T164-2004）規(guī)定，水位監(jiān)測井不得靠近地表水體，且必須修筑井臺，井臺應(yīng)高出地面0.5ｍ以上，用磚石漿砌，并用水泥沙漿護面。

《地下水環(huán)境監(jiān)測技術(shù)規(guī)范》（HJ/T164-2004）規(guī)定，鉛、銅不是屬于地下水常規(guī)監(jiān)測項目里的選測項目。

《水質(zhì)采樣技術(shù)指導(dǎo)》（HJ494-2009）規(guī)定，采集水樣時，如樣品中有樹葉、碎石塊等，將異物從樣品中取出后，該樣品有效。