光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么？

干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點(diǎn)。干法刻蝕的不足之處是什么？

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個(gè)步驟。

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

例舉雙大馬士革金屬化過(guò)程的10個(gè)步驟。