A.樣品
B.晶體
C.選擇性地
D.反射
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A.連續(xù)譜+特征譜
B.純特征譜
C.連續(xù)譜
D.散射線
A.特征
B.斷續(xù)
C.連續(xù)
D.散射
A.散射線
B.短波限
C.特征線
D.連續(xù)線
A.用高能電子束轟擊金屬靶
B.將物質(zhì)用初級X射線照射以產(chǎn)生二級射線
C.利用放射性同位素源衰變過程產(chǎn)生的X射線發(fā)射
D.從同步輻射加速器輻射源獲得
A.波動
B.微粒
C.振動
D.活動
最新試題
由于有副反應(yīng)存在，使穩(wěn)定常數(shù)降低，此時穩(wěn)定常數(shù)為（）
硅鉬蘭光度法測定二氧化硅方法中，加草硫混酸的作用是（）
不能與高錳酸鉀反應(yīng)的物質(zhì)（或元素）是（）
0.1mol/L的NaAc溶液呈堿性，溶液中各種離子濃度滿足的關(guān)系式是（）
在分光光度法分析中，應(yīng)采用的入射光為（）
感光板經(jīng)過顯影后，譜線已經(jīng)出現(xiàn)，為什么還要定影？
Na2O2是強(qiáng)氧化性，強(qiáng)腐蝕性的堿性熔劑，能分解許多難溶物質(zhì)，但使用時，應(yīng)當(dāng)注意不應(yīng)讓（）存在，否則極易發(fā)生起火爆炸。
含Al3+、Zn2+、Fe3+、Mg2+和Sn4+離子的溶液中加入過量的NaOH溶液，不形成沉淀的離子有（）
能力驗證的ZB分?jǐn)?shù)反應(yīng)的是（）結(jié)果的一致性。
重量法測定硅，加HF、H2SO4加熱冒煙，將所得的二氧化硅沉淀灼燒物揮發(fā)除去，如果所用的HF中含有少量的H2SiF4或HBF4，試問所得分析結(jié)果（）