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硅片擴(kuò)散工藝結(jié)束后應(yīng)抽取()片來(lái)檢測(cè)。
A.5
B.6
C.3
D.4
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電阻測(cè)試()個(gè)點(diǎn)。
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單項(xiàng)選擇題
擴(kuò)散潔凈度要求是()
A.10萬(wàn)級(jí)
B.100萬(wàn)級(jí)
C.1萬(wàn)級(jí)
D.1000萬(wàn)級(jí)
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