JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：當(dāng)辯認(rèn)細(xì)小缺陷磁痕時(shí)應(yīng)用2～10倍放大鏡進(jìn)行觀察。

材料磁導(dǎo)率低（剩磁大）及直流磁化后，退磁磁場(chǎng)換向的次數(shù)（退磁頻率）應(yīng)較多，每次下降的磁場(chǎng)值應(yīng)較小，且每次停留的時(shí)間（周期）要略長(zhǎng)。

C型靈敏度試片與A型靈敏度試片使用方法相同，只是C型靈敏度試片能用于狹小部位。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一直線上且間距不大于2mm時(shí)，按一條磁痕處理，其長(zhǎng)度為兩條磁痕之和加間距。

相關(guān)顯示是由漏磁場(chǎng)吸附磁粉形成的磁痕顯示。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的水?dāng)嘣囼?yàn)，主要是用來檢驗(yàn)水磁懸液對(duì)被檢表面的潤(rùn)濕性能，只有出現(xiàn)裸露的“水?dāng)唷北砻?，才可以開始磁粉檢測(cè)。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：磁粉檢測(cè)時(shí)一般應(yīng)選用A1-60/100型標(biāo)準(zhǔn)試片。

對(duì)于交流線圈，線圈中的工件將影響電流的調(diào)整。

剩磁法不能用于干法檢測(cè)。

濕法用磁粉粒度一般比干法小。