A.8年 B.10年 C.12年 D.20年
A.該布圖設計必須由個人對立創(chuàng)造 B.該布圖設計必須投入商業(yè)實施 C.受保護的布圖設計必須固化到集成電路芯片中 D.受保護的布圖設計必須辦理登記手續(xù)
A.證明商標 B.等級商標 C.防御商標 D.聯(lián)合商標