單項選擇題現(xiàn)代近距離照射中,模擬線源時假設(shè)駐留位為N,相鄰駐留位之間的距離為S,則距離源()之內(nèi),模擬源的劑量分布為波浪形,且離放射源距離越近越明顯。
A.N/2
B.S/2
C.NS
D.N/S
E.S/N
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1.單項選擇題為防止高劑量率照射引起治療增益比的下降,可采用分次大劑量照射,其所用分次劑量為()
A.0.4Gy
B.0.5Gy
C.2Gy
D.5Gy
E.12Gy
2.單項選擇題近距離照射中,距離源1cm和3cm之間的劑量變化為()
A.1倍
B.3倍
C.6倍
D.9倍
E.16倍
3.單項選擇題關(guān)于高能電子束的百分深度劑量,描述錯誤的是()
A.劑量建成區(qū)
B.低劑量坪區(qū)
C.高劑量坪區(qū)
D.劑量跌落區(qū)
E.X射線污染區(qū)
4.單項選擇題電子束旋轉(zhuǎn)治療時的β角,射野寬W和曲率半徑r的關(guān)系是()
A.W=2rSin(β/2)/[1-(f/r)Cos(β/2)]
B.W=2rSin(β/2)/[1-(r/F.Cos(β/2)]
C.W=2rSin(f/2)/[1-(r/F.Cos(β/2)]
D.W=2rSin(β/2)/[1-(r/F.Cos(f/2)]
E.W=2rCos(β/2)/[1-(r/F.Sin(β/2)]
5.單項選擇題雙對稱旋轉(zhuǎn)技術(shù)在治療部位的電子束平均能量為(Mev)()
A.2.3
B.2.4
C.3.4
D.4.3
E.4.4
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巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動能率相等。
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關(guān)于組織補(bǔ)償?shù)拿枋?,錯誤的是()。
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