A、真空鍍膜 B、離子電鍍 C、浸泡法 D、磁控陰極法
A、入射角與折射角的正弦值之比是一個(gè)常數(shù) B、入射光線(xiàn)、折射光線(xiàn)與法線(xiàn)位于兩個(gè)平面上 C、入射光線(xiàn)與折射光線(xiàn)位于法線(xiàn)的兩側(cè)且平角完全相等 D、入射角和折射角的正弦比一定等于1
A、頂點(diǎn) B、主切面 C、底 D、底頂線(xiàn)