A.雙壁單影透照像質(zhì)計放置在膠片側(cè)
B.當像質(zhì)計放置在膠片側(cè)時,應(yīng)在像質(zhì)計上適當位置放置鉛字“F”作為標記,“F”標記影象應(yīng)與像質(zhì)計的標記同時出現(xiàn)在底片上,且應(yīng)在檢測報告中注明
C.單壁透照時允許像質(zhì)計放置在膠片側(cè),但必須進行對比試驗
D.當一張膠片上同時透照多條焊接接頭時,至少在第一條、中間一條和最后一條焊接接頭處各放一個置像質(zhì)計
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A.X射線照相應(yīng)盡量選用較低的管電壓
B.γ射線照相時,總的曝光時間應(yīng)不小于輸送源所需時間的10倍
C.X射線照相,當焦距為700mm時,曝光量的推薦值為:AB級不小于15mA.min
D.X射線照相在采用較高管電壓時,應(yīng)保證適當?shù)钠毓饬?/p>
A.電源電壓下降超過10%時,黑光燈輸出功率將大大降低
B.電源電壓波動超過10%時,對人眼損傷較大
C.電源電壓過低嚴重影響檢測靈敏度
D.電源電壓過高嚴重影響黑光燈壽命
A.試塊清洗后,放在酒精溶液中保存
B.施加滲透劑可直接進行刷涂
C.施加滲透劑不能用噴涂方法
D.熒光滲透檢測用試塊可用于著色滲透檢測
A.滲透檢測質(zhì)量分級考慮到了缺陷性質(zhì)、數(shù)量、尺寸和密集程度
B.圓形缺陷的分級既限定了單個缺陷最大尺寸,又限定了缺陷密集程度
C.焊接接頭不允許存在橫向線性缺陷顯示
D.評定框內(nèi)同時存在線性缺陷和圓形缺陷時,應(yīng)進行綜合評級
A.干式顯像劑應(yīng)對其比重進行經(jīng)常校驗
B.干式顯像劑應(yīng)經(jīng)常檢查粉末凝聚
C.干式顯像劑應(yīng)經(jīng)常檢查殘留熒光
D.干式顯像劑對工件無腐蝕
最新試題
物質(zhì)對輻射的吸收是隨什么而變()
最容易發(fā)生光電效應(yīng)的射線能量為()
超聲波斜探頭的K值等于()的正切值。
影響較大的散射線通常來自()
當射線穿透任何一物體時,部分被物體吸收,部分則穿透該物體,還有一部分則被構(gòu)成該物的原子內(nèi)電子向各方面散射,此散射為()
射線照片上細節(jié)影像的可識別性主要決定于()
調(diào)節(jié)掃描速度時,應(yīng)使()同時對準相應(yīng)的水平刻度值。
二次波檢測是一種特殊的檢測工藝,以下關(guān)于二次波檢測的做敘述,哪一條是錯誤的()
下列對耦合劑應(yīng)該具有的特點的描述,不正確的一項是()
一般認為表面波探測的有效深度約為()