最新試題
在HCl塔倒空置換時(shí),下列說法正確的是()
題型:多項(xiàng)選擇題
氧氯化反應(yīng)急冷塔塔底排水量突然增多,原因可能是()
題型:多項(xiàng)選擇題
EDC在線水分析儀出現(xiàn)故障時(shí),分析儀表著重檢查()
題型:多項(xiàng)選擇題
在VCM裝置中,EDC裂解爐在燒焦時(shí)超溫的危害性有()
題型:多項(xiàng)選擇題
EDC在線水分析儀出現(xiàn)故障時(shí),從工藝方面,應(yīng)檢查()
題型:多項(xiàng)選擇題
氯乙烯裝置直接氯化單元產(chǎn)品中高沸含量上升,主要原因是()
題型:多項(xiàng)選擇題
VCM裝置中外排廢水COD超標(biāo),處理措施正確的是()
題型:多項(xiàng)選擇題
氯乙烯裝置安全閥在打完壓后,存放時(shí)應(yīng)注意()
題型:多項(xiàng)選擇題
氧氯化法生產(chǎn)VCM單體時(shí),含乙炔超標(biāo),主要原因是()
題型:多項(xiàng)選擇題
乙烯在線分析儀出現(xiàn)故障時(shí),從工藝方面,應(yīng)檢查()
題型:多項(xiàng)選擇題