A.頻率不變時(shí)晶片直徑減小時(shí)增大
B.頻率不變時(shí)晶片直徑減小時(shí)減小
C.頻率增加而晶片直徑減小時(shí)增大
D.頻率增加而晶片直徑減小時(shí)減小
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A.平行于波的傳播方向
B.垂直于超聲波的傳播方向
C.限于材料表面并作橢園1運(yùn)動(dòng)
D.在平面中與波的傳播方向成45°偏振
A.掃描電路
B.接收器
C.脈沖器
D.同步器
A.顯示裝置或陰極射線管
B.接收器
C.標(biāo)志電路或范圍標(biāo)志電路
D.同步器或計(jì)時(shí)器
A.靈敏度范圍
B.線性范圍
C.選擇性范圍
D.分辨率范圍
A.材料的折射率
B.材料的聲阻
C.材料的彈性系數(shù)
D.材料的泊松比
最新試題
發(fā)射電壓幅度也就是發(fā)射脈沖幅度,它的高低主要影響發(fā)射的超聲波能量。
衍射時(shí)差法探傷,當(dāng)有缺陷存在時(shí),在直通波和底面反射波之間,接收探頭會(huì)接收到缺陷處產(chǎn)生的衍射波。
水浸聚焦探頭是由外殼、阻尼塊、晶片、聲透鏡等組成。
缺陷垂直時(shí),擴(kuò)散波束入射至缺陷時(shí)回波較高,而定位時(shí)就會(huì)誤認(rèn)為缺陷在軸線上,從而導(dǎo)致定位不準(zhǔn)。
根據(jù)球形反射體返回晶片聲壓的計(jì)算公式與圓柱形平面反射體的表達(dá)式進(jìn)行比較可知,在反射體直徑相同的情況下,圓形反射體的反射聲壓比球形反射體的反射壓小。
缺陷相對(duì)反射率即缺陷反射聲壓與基準(zhǔn)反射體聲壓之比。
橫波檢測(cè)平板對(duì)接焊縫根部未焊透等缺陷時(shí),不同K值探頭檢測(cè)同一根部缺陷,其回波高相差不大。
非金屬夾雜等缺陷的聲阻抗與鋼的聲阻抗相差很小,聲波在缺陷上的透射和吸收明顯高于白點(diǎn)和氣孔等缺陷。
儀器時(shí)基線調(diào)節(jié)比例時(shí),若回波前沿沒(méi)有對(duì)準(zhǔn)相應(yīng)垂直刻度或讀數(shù)不準(zhǔn),會(huì)使缺陷定位誤差增加。
為了減少側(cè)壁的影響,必要時(shí)可采用試塊比較法進(jìn)行定量,以便提高定量精度。