最新試題
熱處理時(shí)具體溫度下所得到的奧氏體晶粒大小稱(chēng)為（）
我國(guó)常采用的中頻加熱設(shè)備的輸出頻率為（）
常用的滲碳表面碳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為（）
滲碳的目的是提高表面（）
馬氏體的碳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)（）奧氏體的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。
