下列可能造成離子源沾污的因素是（）

電子束蒸發(fā)中有一個特殊的部件是（）

以下是離子注入過程中的主要參數(shù)的是（）

當(dāng)需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時，一般使用（）。

離子注入機掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）

下列哪些是進行光刻前的預(yù)處理的步驟？（）

在離子注入完成后，檢驗到硅片表面有顆粒污染嚴(yán)重的情況，該情況引起的主要問題有（）

最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有（）

最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）