解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

光刻膠對人部分可見光敏感，但對（）光不敏感。

（）可以通過帶電粒子在盛場作用下做運動把粒子進行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。

回態(tài)源擴散的雜質源有（）

一般情況下，刻蝕完成后需要進行的操作是（）

刻蝕的過程中，對刻蝕的要求是（）

以下是離子注入過程中的主要參數(shù)的是（）

試說明ICT測試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點？

下列哪些是進行光刻前的預處理的步驟？（）

最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）