A、控制還原氫氣濃度不能超過20% B、連續(xù)使用氮?dú)庾鳛橄♂寗?br /> C、在循環(huán)系統(tǒng)連續(xù)配入氫氣和水蒸汽 D、轉(zhuǎn)化爐出口氫氣過剩量不能超過20%
A、使用氫氣循環(huán)升溫 B、使用水蒸汽循環(huán)升溫 C、使用氮?dú)庋h(huán)升溫 D、使用氮?dú)庋h(huán)降溫
A、流量充足、含硫在0.2PPm以下 B、流量充足、含硫在0.5PPm以下 C、流量充足、含硫在0.7PPm以下 D、流量充足、含硫在I.0PPm以下