首頁
題庫
網(wǎng)課
在線???/a>
桌面端
登錄
搜標(biāo)題
搜題干
搜選項(xiàng)
0
/ 200字
搜索
名詞解釋
負(fù)載效應(yīng)
答案:
等離子體圖形化刻蝕過程中,刻蝕圖形將影響刻蝕速率和刻蝕輪廓。
點(diǎn)擊查看答案
手機(jī)看題
你可能感興趣的試題
問答題
【簡答題】簡述IC芯片工藝過程中包括的刻蝕工藝過程
答案:
(1)圖形化和整面全*區(qū)刻蝕。
(2)單晶硅刻蝕用于淺槽隔離。
(3)多晶硅刻蝕用于界定柵和局部互連...
點(diǎn)擊查看答案
手機(jī)看題
名詞解釋
通道效應(yīng)
答案:
如果一個(gè)電子以正確的角度進(jìn)入通道,它只需要很少的能量就可以行進(jìn)很長的距離。
點(diǎn)擊查看答案
手機(jī)看題
微信掃碼免費(fèi)搜題