A.4和25% B.3和25% C.4和75% D.3和75%
A.氧化溝基本構(gòu)成包括:氧化溝池體、曝氣設(shè)備、進(jìn)出水裝置、導(dǎo)流和混流裝置 B.采用氧化溝工藝處理城市污水時(shí),必須設(shè)置初次沉淀池 C.三溝式氧化溝無需設(shè)置專門二次沉淀池和污泥回流裝置 D.三溝式氧化溝將曝氣、沉淀工序集于一體,并具有按時(shí)間順序交替輪換運(yùn)行的特點(diǎn),其運(yùn)轉(zhuǎn)周期可根據(jù)處理水質(zhì)的不同進(jìn)行調(diào)整
A.應(yīng)該根據(jù)廢水中污染物特性進(jìn)行工藝設(shè)計(jì) B.應(yīng)根據(jù)污水深度處理后出水的不同用途,選擇不同工藝單元 C.在選擇污水深度處理工藝時(shí),還應(yīng)該考慮積極性的原則 D.污水深度處理各個(gè)單元工藝可相互獨(dú)立,不必考慮單元處理工藝之間的兼容性