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下列方程式中屬于二氧化硅刻蝕工藝的是()。
A.4HF+Si=SiF
4
+2H
2
↑
B.CF
4
+SiO
2
——→SiF
4
+CO
2
↑
C.CF
4
+SiO
2
+O
2
——→SiF
4
+CO
2
↑
D.SiO
2
+4HF——→SiF
4
+2H
2
O
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單項選擇題
磷硅玻璃的主要組成是()和()。
A.P,Si
B.P
2
O
5
,Si
C.P
2
O
5
,O
2
D.P,SiO
2
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單項選擇題
目前在太陽能光伏發(fā)電系統(tǒng)中,最常用的儲能設備是()。
A.堿性蓄電池
B.鋰離子電池
C.鎳鉻電池
D.鉛酸蓄電池
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