A、源的強(qiáng)度
B、源的尺寸
C、源的使用時(shí)間
D、源的種類(lèi)
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A、質(zhì)量數(shù)相同,中子數(shù)不同的元素
B、質(zhì)量數(shù)不同,中子數(shù)相同的元素
C、質(zhì)子數(shù)相同,中子數(shù)不同的元素
D、中子數(shù)相同,質(zhì)子數(shù)不同的元素
A、電子
B、中子
C、質(zhì)子
D、原子
A、64%
B、36%
C、20%
D、80%
A、抑制劑
B、顯影劑
C、加速劑
D、保護(hù)劑
A、亞硫酸鈉
B、溴化鉀
C、菲尼酮
D、碳酸鈉
最新試題
掃描儀器的掃查的間距通常根據(jù)探頭的最小聲束(),保證兩次掃查之間有一定比例的覆蓋。
隨著渦流檢側(cè)儀器制造技術(shù)的發(fā)展,出現(xiàn)了多種型號(hào)的同時(shí)具備探傷、電導(dǎo)率測(cè)量()測(cè)量功能的通用型儀器。
渦流探傷中平底盲孔缺陷對(duì)于管壁的()具有較好的代表性,因此在在役管材的渦流檢測(cè)中較多采用。
缺陷檢測(cè)即通常所說(shuō)的渦流探傷主要影響因素包括()、電導(dǎo)率、磁導(dǎo)率、邊條效應(yīng)、提離效應(yīng)等。
渦流檢測(cè)輔助裝置的試樣傳動(dòng)裝置在()材生產(chǎn)線(xiàn)上的應(yīng)用最為廣泛。
各類(lèi)渦流檢測(cè)儀器的()和結(jié)構(gòu)各不相同。
直接射向缺陷的波就是()
在聲束垂直試件表面時(shí),所獲得的()反射波高可能并不是可獲得的最大反射波高。
當(dāng)波束中心線(xiàn)與缺陷面()且回波最()時(shí),移動(dòng)探頭使波束中心(),回波高度當(dāng)隨之下降。
用于測(cè)量黑光強(qiáng)度的現(xiàn)代黑光輻射照度計(jì),其探頭(傳感器)的光敏組件的前面有(),只適用于測(cè)量黑光。