A、側(cè)壁干擾 B、61°角反射波 C、工件底面不平 D、以上都對(duì)
A、應(yīng)使用直探頭 B、要使用大晶片探頭 C、壓電元件應(yīng)在其基頻上激發(fā) D、探頭的頻帶應(yīng)盡可能寬
A、1/2λ以上 B、2λ以上 C、4λ以上 D、以上都不對(duì)