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單項(xiàng)選擇題
下面哪個(gè)選項(xiàng)不是集成電路工藝用化學(xué)氣體質(zhì)量的指標(biāo)?()
A.金屬離
B.微粒
C.純度
D.濃度
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單項(xiàng)選擇題
如下哪個(gè)選項(xiàng)不是半導(dǎo)體器件制備過(guò)程中的主要污染物?()
A.化學(xué)物質(zhì)
B.金屬離子
C.融解的氧氣
D.細(xì)菌
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單項(xiàng)選擇題
目前制備SOI材料的主流技術(shù)有幾種?()
A.注氧隔離法
B.智能剝離法
C.鍵合再減薄技術(shù)
D.以上都是
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