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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】離子注入后為什么要退火？
答案：
1）氧化生成保護(hù)膜
2）離子再分布，減小雜質(zhì)濃度差
3）修復(fù)損傷
4）激活注入雜質(zhì)
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【簡(jiǎn)答題】什么是溝道效應(yīng)？抑制方法？
答案：
1）溝道效應(yīng)：襯底為單晶材料，離子束準(zhǔn)確的沿著晶格方向注入，幾乎不會(huì)受到原子核的散射，其縱向分布峰值與高斯分布不同。一部...
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】什么是擴(kuò)散工藝？
答案：
擴(kuò)散是微電子工藝中最基本的工藝之一，是在約1000℃的高溫、p型或n型雜質(zhì)氣氛中，使雜質(zhì)向襯底硅片的確定區(qū)域內(nèi)擴(kuò)散，達(dá)到...
