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A.陰性部分常固定于覆蓋基牙的根管內(nèi)
B.陰性部分固定于義齒基托內(nèi)
C.陰性部分常固定于覆蓋基牙的根管內(nèi)
D.陰性和陽性部分均固定于義齒基托內(nèi)
E.陰性和陽性部分均固定于覆蓋基牙

A.基托組織面與覆蓋基牙間，與長冠、短冠金屬頂蓋間以及雙重頂蓋間應(yīng)留有1mm間隙
B.組織倒凹的處理
C.利用磁體
D.基托增力設(shè)計
E.以上都正確

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