多項(xiàng)選擇題AgCl在HCI溶液中的溶解度，隨HCl的濃度增大，先是減小然后又逐漸增大。最后超過(guò)其在純水中的飽和溶解度，這是由于（）。

A.開(kāi)始減小是由于酸效應(yīng)
B.開(kāi)始減小是由于同離子效應(yīng)
C.最后增大是由于鹽效應(yīng)
D.最后增大是由于配位效應(yīng)


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1.多項(xiàng)選擇題可以用（）表示物質(zhì)的溶解能力。

A.溶解度
B.溶度積
C.離解常數(shù)
D.平衡常數(shù)

2.多項(xiàng)選擇題在配位滴定中，對(duì)配位掩蔽劑的要求有（）。

A.干擾離子形成的配合物應(yīng)是無(wú)色或淺色的
B.干擾離子與掩蔽劑形成的配合物應(yīng)比與EDTA形成的配合物穩(wěn)定性小
C.掩蔽劑應(yīng)不與被測(cè)離子配位，或其配合物的穩(wěn)定性遠(yuǎn)小于EDTA與被測(cè)離子所形成配合物的穩(wěn)定性
D.滴定要求的pH范圍內(nèi)，具有很強(qiáng)的掩蔽能力

3.多項(xiàng)選擇題影響配位滴定突躍范圍的因素包括（）。

A.滴定速度
B.配合物穩(wěn)定常數(shù)
C.掩蔽劑的存在
D.溶液的酸度

4.多項(xiàng)選擇題沉淀的形成狀態(tài)主要由（）決定。

A.聚集速度
B.定向速度
C.徑向速度
D.橫向速度

5.多項(xiàng)選擇題沉淀滴定的滴定曲線的突躍范圍的大小與（）有關(guān)。

A.溶液中鹵化物的原始濃度
B.沉淀物的溶解度
C.溶液的酸度
D.干擾情況

最新試題

銅電極插在Cu2+溶液中，與氫標(biāo)準(zhǔn)電極作比較，當(dāng)反應(yīng)達(dá)到平衡時(shí)，測(cè)得銅電極的電位是0.224V，求此時(shí)溶液中Cu2+的濃度是多少？

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某方法測(cè)定，共分析5次，得到的測(cè)定結(jié)果分別為：0.69%、0.67%、0.68%、0.66%、0.68。試計(jì)算平均差、標(biāo)準(zhǔn)偏差、相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差，若置信度為95%，t=2.78，求真實(shí)值范圍。

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濃度為4.0×10-5mol·L-某一化合物，用分光光度法測(cè)定，用1cm比色皿測(cè)得吸光度為0.56，求ε和T？

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