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單項(xiàng)選擇題

記存研究模型的修整，基底部分的高約為解剖部分的（）

A.1／3～1／2
B.1／4～1／2
C.2／3～3／4
D.1／5～1／3
E.1／2～3／4

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單項(xiàng)選擇題

模型灌注后適宜的脫模時(shí)間為（）

A.1～2小時(shí)
B.2～4小時(shí)
C.6～8小時(shí)
D.12小時(shí)
E.24小時(shí)

單項(xiàng)選擇題

模型底座厚薄適宜，一般腭頂和口底，的最薄處應(yīng)保持（）

A.3～5mm
B.1～2mm
C.5～10mm
D.10～20mm
E.30mm