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問(wèn)答題

【計(jì)算題】
如圖所示，G₁是用來(lái)檢驗(yàn)加工件質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)件，G₂是待測(cè)的加工件。它們的端面都經(jīng)過(guò)磨平拋光處理，將G₁和G₂放置在平臺(tái)上，用一光學(xué)平板玻璃T蓋住，設(shè)垂直入射的波長(zhǎng)λ=589.3nm，G₁與G₂相隔d=0.5cm，T與G₁以及T與G₂間的干涉條紋的間隔都是0.5mm，求G₁與G₂的高度差△h。

答案：

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多項(xiàng)選擇題

對(duì)U_AB=1V的理解，正確的是（）

A.從A到B移動(dòng)qC的電荷，電場(chǎng)力做功1J
B.從A到B移動(dòng)1C的正電荷，電場(chǎng)力做功1J
C.從A到B移動(dòng)1C的負(fù)電荷，克服電場(chǎng)力做功1J
D.從A到B移動(dòng)1C的負(fù)電荷，外力做功1J

問(wèn)答題

【計(jì)算題】
波長(zhǎng)為λ的單色光垂直照射到折射率為n₂的劈形膜上，如圖所示，圖中n₁＜n₂＜n₃，觀察反射光形成的干涉條紋。

相鄰的二明紋所對(duì)應(yīng)的薄膜厚度之差是多少？

答案：