單項選擇題

【A1/A2型題】患者上頜局部義齒修復。義齒初戴時,發(fā)現上腭后部彎制的腭桿離開腭黏膜2mm,處理方法是()

A.取下腭桿
B.腭桿組織面緩沖
C.腭桿組織面加自凝樹脂重襯
D.不做任何處理
E.取下腭桿后,戴義齒取印模,在模型上重新加腭桿

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