A.10%~15%過氧化脲
B.10%~15%過氧化氫
C.20%~30%過氧化脲
D.30%過氧化氫
E.A和D
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A.濕粘結(jié)技術(shù)是指在自酸蝕粘結(jié)技術(shù)中的操作技術(shù)
B.濕粘結(jié)技術(shù)主要是指牙釉質(zhì)全酸蝕技術(shù)
C.濕粘結(jié)技術(shù)就是要求酸蝕后的牙本質(zhì)表面必須保持濕潤
D.濕粘結(jié)技術(shù)就是要求酸蝕后的牙釉質(zhì)表面必須保持濕潤
E.濕粘結(jié)技術(shù)主要應(yīng)用于第五、第六代粘結(jié)劑中
A.口腔環(huán)境不佳
B.菌叢變化
C.缺乏舌運(yùn)動(dòng)
D.食物和唾液酸性增高
E.不良義齒刺激
A.牙槽骨吸收在牙根的頸1/3以內(nèi)
B.牙槽骨吸收在牙根的頸1/2以內(nèi)
C.牙槽骨吸收占根長2/3以上
D.牙槽骨吸收達(dá)根長的1/2
E.牙槽骨吸收達(dá)根長的1/3
A.唾液成分
B.菌斑量
C.口腔衛(wèi)生習(xí)慣
D.修復(fù)體的光潔度
E.以上均是
A.四環(huán)素類藥物本身的顏色
B.四環(huán)素類藥物降解而呈現(xiàn)的色澤
C.四環(huán)素在牙本質(zhì)內(nèi)結(jié)合部位的深淺
D.與釉質(zhì)本身的結(jié)構(gòu)相關(guān)
E.以上都是
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垂直距離恢復(fù)過大的表現(xiàn)不包括()。
附著體義齒的組成部分不包括()。
磁性附著體屬于()。
固定橋撓曲造成的不良后果不包括()。
有關(guān)前牙金瓷冠牙體預(yù)備的要求,正確的是()。
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先制取初印模后,在初印模上均勻去出一層印模材料,然后再制取終印模是()。
全冠粘固較長時(shí)間后出現(xiàn)疼痛,其主要原因不包括()。
下列關(guān)于全口義齒磨光面的敘述,錯(cuò)誤的是()。