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蝕刻液中只需要含有氯化銅即可達(dá)到理想蝕刻要求。
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浸泡式蝕刻通常使用添加了過硫酸鹽或過氧化氫的硫酸作為蝕刻液。
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在濕法蝕刻中,側(cè)蝕是不可避免的,所以鍍層突沿總是存在的。
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