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多項選擇題
干法蝕刻通常指利用輝光放電方式,產(chǎn)生等離子體來進行圖案轉(zhuǎn)移的蝕刻技術(shù)。其中等離子體含有()。
A.離子、電子
B.中性原子
C.分子
D.自由基
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多項選擇題
廣義而言,所謂的蝕刻技術(shù)可以分為()。
A.干蝕刻
B.濕蝕刻
C.中性蝕刻
D.無側(cè)蝕蝕刻
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多項選擇題
在堿性氯化銅蝕刻中,造成蝕刻過度的原因可能有()。
A.傳送速度太慢
B.pH值過高
C.蝕刻液比重偏低
D.蝕刻液溫度不足
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